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高GWP感応型半導体用チラーが高度なファブに適している理由は何ですか?

Dec 25, 2025

精密性、持続可能性、信頼性は、極めて感受性の高い半導体チラーの主な柱であり、半導体製造業界においてその重要性は強調しすぎることはありません。これらの製品は、熱管理分野で業界をリードするLIAT社が設計・製造したもので、半導体ファブ工場向けにカスタマイズされた感受性の高いGWPチラーです。LIAT社が設計・開発したこれらの専用GWPチラーは、5nm時代、2.5Dおよび3Dパッケージング、チップレットベースの製品、および今日私たちが直面するその他の現代的技術的課題に応えるために、最新技術を採用・統合しています。これらがLIATのGWP感受性チラーがこれらの製造工場向けに最適であるとされる主な理由です。

半導体産業などにおけるこれらの製造工場の高度なプロセスは、極めて精密な温度制御を要求します。LIAT GWP対応高感度半導体用チラーは、競合他社に比べてその点で優れた性能を提供します。LIATの半導体用高感度チラーはクラス最高レベルの性能を誇り、-100°Cから+200°Cの範囲で±0.1°Cの温度制御を実現しています。この精度により、5nmノード工程中に発生する熱的不安定性が原因で生じていた40%の歩留まりロスを解消できます。他のメーカーのチラーは精度が低いため、チップの欠陥や気孔(ポロシティ)を引き起こしやすく、それが40%ものチップ歩留まりロスにつながっていましたが、これらの最新鋭の高感度チラーはそのような問題を回避します。また、これらのGWP対応チラーはクリーンルーム内で徹底した品質管理を経ており、業界内で比類ない基準を達成しています。環境に配慮した設計とグローバルな視点を取り入れた開発

Single Channel Chillers

主要なフレキシブルチップ製造メーカーは環境を重視しています。LIATの高GWP感応型半導体用冷却装置は環境への配慮と調和しており、GWP = 1かつODP = 0のCO2冷媒を使用しています。これにより、キガリ改正およびTSMC5Nのフッ素系冷媒段階的廃止規制に適合します。したがって、今後課される予定の炭素税の影響を受けず、カーボンニュートラル化という必須目標の達成を進めることができます。この冷却装置の設計は、業界が生態系持続可能な生産へと移行する流れに合致しています。LIATでは、GWP対応冷却装置のカスタマイズも可能です。

最先端ファブ装置とのシームレスな互換性

LIATの高GWP対応協働型半導体用チラーは、最先端機器とのシームレスな適応性を実現し、その分野での先駆的役割と評価に十分に値します。LIATの高GWP対応協働型半導体用チラー設計は、機能低下を招くことなく、柔軟な通信システムに対応可能です。これは2.5D/3Dパッケージシステム、チップレット製造システム、およびその他のOEM機器の両方に適用されます。超コンパクトな筐体に収納されたこれらのユニットは、クリーンルームおよびファブフロアのフットプリント配置をさらに最適化し、流動性の向上を図ります。連続生産の利点として、LIATは主要機器メーカーのフロア図面に対して高GWP対応の感度ある半導体用チラー適応性を有しています。これにより、お客様のダウンタイムを最小限に抑えることが可能です。

エネルギー効率とコスト最適化

LIATは、経費を最小限に抑えながらエネルギー効率を向上させる機能を備えた高GWP感応型半導体用チラーを開発しました。先進的な半導体製造施設(ファブ)では、運用中にコストを維持し低く抑えることがますます困難になっています。LIATの高GWPチラーは冷却需要に応じて消費電力を調整可能なため、運用コストを削減できます。すべての金属パネルは耐久性に優れ、メンテナンスが少なくて済むため、長期的なコストを低減します。高GWP半導体用チラーは歩留まりロスを37%改善し、より収益性の高い運用を実現しました。LIATのチラーは、大規模で高度なファブの運用(または運用効率)において、より効率的でコストバランスの取れた代替ソリューションです。

Single regulation chiller

堅牢な安定性とEMI耐性

先進的な半導体製造施設(ファブ)における信頼性と安定性は、組み込み済みであり、妥協を許しません。LIATの高GWP感応型半導体用チラーは、作業負荷の変動や外部干渉時においても安定した運転制御を行うため、PLC制御システムを搭載しています。変動対応機能およびEMI耐性により、海上からの干渉から敏感な半導体装置を保護し、工程の途切れることのない継続を可能にします。汚染管理された環境での運用に対応した高GWP感応型半導体用チラーは、クリーンルームクラス100規格にも準拠しています。LIATの品質管理および製造プロセスは十分に成熟しており、ファブ用チラーが最小限のダウンタイムで運転されることを保証できます。

最終的なコメント

LIATは、高GWPに配慮した半導体用チャillerを通じて、引き続き重要な熱管理ソリューションを提供しています。これにより、5nmノードおよび2.5/3Dパッケージングの課題に対応するために必要な最先端の温度制御を、先進的な半導体製造施設に提供しています。12年以上にわたる熱管理の経験に基づき、LIATは高いレベルの温度制御性能と環境配慮性を備えた高GWPに配慮した半導体用チャillerを開発しました。この技術は、半導体製造施設が直面する課題に対応すると同時に、製造歩留まりの向上とコスト削減を実現します。世界中の主要な半導体製造施設から構成されるLIATのグローバルな顧客基盤は、今後も半導体製造の未来を支えるチャillerを生み出すために、革新的な熱管理ソリューションを提供するLIATを信頼し続けています。自社の先進的製造施設の性能と収益性を微調整するとともに、持続可能な運用フットプリントを拡大するために、LIATの高GWPに配慮した半導体用チャillerをご信頼ください。