二重チャネルチラー

温度安定性 : ±0.1℃

温度範囲 : -20˚C～+80˚C

冷却能力 : -20℃@2 KW/20℃@10 KW

デュアルサーキット高精度冷却システム 1台で2台の独立した冷凍機の性能を実現。達成する ±0.1℃ サーキットごとの安定性 重要な半導体用途に最適：

PVD/CVD装置温度制御

エッチングプロセス熱管理
業界で実証済みの互換性 aMAT、LAM、AMEC、TEL、およびその他の主要ファブ装置との

技術的説明:

リンヘンデュアルサーキットチラー 1台で2系統の独立した温度管理を実現します。
特集 ±0.1℃ サーキットごとの安定性 、これらのシステムは以下のような用途に設計されています：

PVD/CVDチャンバーの同期冷却

エッチャーツールにおける多ゾーン熱管理
業界標準の互換性（AMAT/LAM/TEL）を備え、設置面積を40%削減することで、省スペースかつ高精度な冷却を実現します。

主な利点：

1台で2役の効率性
» 独立回路の2台チラーを1台に置き換え
→ クリーンルーム面積が40％削減＋CAPEXが30％低減

高精度ダブルコントロール
» 回路ごとの±0.1℃の安定性（ΔT＜0. 2℃)
→ CVD/PVD工程でのフィルム厚さのばらつきを3％未満に抑える

ファブ対応インテグレーション
» AMAT/LAM/TELプロトコルが事前インストール済み
→ 300mmツールの互換性90％、ダウンタイムが65％削減

Energy TwinDrive™
» 従来のペアと比較してエネルギー消費が35％削減
→ SEMI S23認証取得、年間$18,000以上の節約

ゼロ交差汚染
» カスタマイズ可能な流路 + レーザー溶接ジョイント
→ UPW／フルオリネート／EGW対応

结构图.png

コアコンポーネントおよび動作:

構成部品	テクノロジー
コンプレッサー	液体スラグ保護機能付き密閉インバーターコンプレッサー（±0. 1℃ 制御）
コンデンサ	ステンレス鋼、熱損失5％未満
蒸発器	プレート型設計、効率が35％向上、騒音≤55dB
ヒーター	浸漬直接加熱、±0.3℃均一性
膨張弁	電子弁付き過熱制御±1℃
ポンプ	マグドライブポンプ（フッ素系流体対応）、流量変動<2%

冷凍原理：

適応型PID冷凍サイクル :
1️⃣ 圧縮 → 冷媒加圧
2️⃣ 凝縮 → 放熱および液化
3️⃣ EEV絞り → 低圧生成
4️⃣ 蒸発 → 装置からの高精度熱吸収
5️⃣ インバーターフロー制御 → ±0を維持 1℃ 安定性