De 26 a 28 de março de 2025, a SEMICON China, a principal referência anual da indústria global de semicondutores, foi realizada com grande pompa no Centro de Exposições Internacionais Nova Xangai. Este grande evento, que ocupou 100.000 metros quadrados e reuniu 1.400 expositores e 50.000 visitantes profissionais, destacou-se pela sua "internacionalização e cobertura completa da cadeia industrial", delineando o panorama futuro da indústria de semicondutores por meio de demonstrações de tecnologia de ponta e diálogos setoriais aprofundados. A feira esteve repleta de destaques, com um constante fluxo de novas tecnologias e produtos, injetando nova vitalidade no desenvolvimento do setor. Como empresa líder em pesquisa, desenvolvimento e fabricação de equipamentos de controle térmico de precisão na indústria nacional de semicondutores, a Shanghai Lingheng Industrial Automation Co., Ltd. (doravante denominada "Lingheng Industrial") atraiu ampla atenção na exposição devido ao seu desempenho notável e conquistas inovadoras na área de controle térmico para a fabricação de semicondutores.
Como um dos principais participantes na indústria de semicondutores, a Lingheng Industrial tem se dedicado a fornecer soluções de controle de temperatura de alta e baixa temperatura para a fabricação de semicondutores e áreas relacionadas. Possui ampla experiência em pesquisa, desenvolvimento, produção e instalação de equipamentos de controle térmico para aquecimento elétrico, refrigeração em baixa temperatura e condições de ultra-baixa temperatura. Nesta exposição, a empresa apresentou ao público sua mais recente linha de produtos CO2Chiller com foco em baixo carbono e sustentabilidade ambiental, bem como seus consagrados produtos do sistema Heating Jacket System.
A estreia bem-sucedida nesta exposição não é o fim. A Lingheng Industrial continuará a aprofundar sua atuação no campo do controle térmico para semicondutores e espera explorar novas fronteiras da manufatura inteligente juntamente com você!
Produtos Exibidos
Economia de energia e respeito ao meio ambiente, estável e confiável, resposta rápida.
Como componente crucial dos sistemas de controle de temperatura na indústria de semicondutores, a qualidade do chiller impacta diretamente a estabilidade térmica durante a fabricação de wafers semicondutores. Desde sua fundação em 2013, a Lingheng Industrial tem continuado inovando, com foco em P&D e controle de qualidade. Os produtos da série Chiller apresentam configuração conveniente, resposta rápida, alta eficiência, economia de energia e controle preciso de temperatura, alcançando verdadeiramente baixo consumo energético e efeitos de refrigeração com alta estabilidade, impulsionando a fabricação de wafers semicondutores.
Sistema de Aquecimento por Jaqueta
Material todo em PTFE, aquecimento de alta eficiência
O Casaco de Aquecimento utiliza elementos aquecedores de alta qualidade e um sistema de controle de temperatura de alta precisão, permitindo aquecimento rápido e controle eficiente da temperatura. Por meio da otimização contínua do processo de aquecimento e do uso de material todo em PTFE, a estabilidade geral do sistema é significativamente melhorada.
O que é um Sistema de Casaco de Aquecimento?
Um Sistema de Jaqueta de Aquecimento é usado para manter a temperatura em tubulações a vácuo e de gás utilizadas em diversos processos produtivos tecnológicos. É fabricado sob medida para atender requisitos específicos do cliente.
Atualmente, é amplamente utilizado para manutenção de temperatura em tubos de aço inoxidável a vácuo ou de exaustão em semicondutores, evitando que meios não reagidos formem subprodutos que condensam na parede interna do tubo devido a baixas temperaturas internas, causando obstruções ou outros problemas que reduzem a eficiência de exaustão.
O sistema é composto por uma Jaqueta de Aquecimento, um controlador de temperatura e uma caixa de controle HMI, utilizada para monitoramento em tempo real das condições da tubulação e aquecimento das tubulações.
Aplicações típicas
Tubulação para entrega de gás (tricloreto de boro (BCl3), trifluoreto de cloro (ClF3), ortossilicato de tetraetila (TEOS), diclorosilano DCS (SiH2Cl2), hexafluoreto de tungstênio (WF6), qualificação de tubulação para gás de processo; deposição química a vapor e ataque químico metálico (deposição química a vapor de baixa pressão, deposição química a vapor assistida por plasma); ataque por plasma (ataque de alumínio, ataque de tungstênio).
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