Solusi Pendinginan Presisi untuk Manufaktur Semikonduktor
Bagaimana Chiller Canggih Meningkatkan Hasil Produksi, Mengurangi Biaya & Mendukung Chip Generasi Selanjutnya
“Pada node 5nm, 40% kehilangan hasil produksi terkait dengan ketidakstabilan termal — sistem chiller kami mengurangi hal ini sebesar 37%.”
Presisi Termal = Profitabilitas: Aplikasi Kritis
1. Sistem Pendingin Litografi EUV
Permasalahan Industri: Fluktuasi air sebesar 0,1°C menyebabkan kesalahan tumpang tindih >3nm
Solusi Kami:
✅ Chiller CO₂ GVS
stabilitas ±0,1°C melalui pendinginan superkritis R744
Transmisi bebas getar (<0,1μm) mencegah distorsi lensa ASML NXE
respon 20ms terhadap lonjakan energi laser
2. Sistem Kriogenik Implantasi Ion
Titik Masalah Industri: Pendinginan lambat menyebabkan defek kisi, meningkatkan kebocoran perangkat sebesar 40%
Solusi Kami:
✅ Unit Kriogenik Seri-U dengan Sistem Bertingkat (-80°C)
waktu pendinginan cepat 8 menit hingga -50°C dengan pendinginan bertingkat
Manajemen suhu terkendali dengan algoritma PID
Sirkulasi dielektrik mencegah lonjakan tegangan tinggi
3. Kontrol Suhu CVD Multi-Zona
Titik Masalah Industri: Drift dinding ruang menyebabkan variasi ketebalan film ±5%
Solusi Kami:
✅ Chiller Triple-Channel VT
Kontrol independen ±0,1°C untuk saluran gas/ruang/pompa vakum
Prediksi fluks panas terintegrasi dengan Applied Materials Endura™
Loop tertutup mencegah kontaminasi silang
Melewati Pendinginan: Mesin Nilai Strategis
️ Keberlanjutan Energi
Pemulihan panas buangan (85°C → generasi UPW) mengurangi penggunaan energi fab sebesar 23%
Integrasi Industri 4.0
Pelacakan jejak karbon per-wafer dengan pelaporan emisi real-time
️ Operasi Bebas Polusi
|
Risiko |
Chiller Tradisional |
Solusi Kami |
|
Kebocoran PFAS |
Sanksi regulasi |
Alami R744 (sesuai REACH) |
Fab Future-Proof: Kesiapan Generasi Selanjutnya
Kesejajaran Peta Jalan Teknologi
|
Node |
Persyaratan yang Muncul |
Tanggapan Kami |
|
3nm |
Keseragaman termal multi-zona |
Kontrol gradien prediktif |
|
2nm |
Stabilitas pada tingkat kuantum |
Peredaman fluktuasi berbasis AI |
|
GWP |
<150 standar wajib |
Refrigeran R744 (GWP=1) |
1.Peningkatan Otoritas Teknis
Referensi peralatan ASML/Applied Materials™ dengan notasi merek dagang
Istilah industri standar: "R744 superkritis" (bukan "siklus CO₂"), "refrigerasi bertingkat"
2.Pemeliharaan Integritas Data
Pertahankan ketat metrik kritis: ±0,1°C, <0,1μm, pengurangan energi 23%
Simbol matematika: >3nm (bukan "lebih dari 3nm"), variasi ±5%
3.Kerangka Masalah-Penyelesaian
Titik masalah diubah ke kalimat aktif: "menyebabkan kesalahan tumpang tindih >3nm"
Solusi diberi awalan ✅ untuk pemindaian visual
4.Presisi Regulatoris
Pernyataan eksplisit kepatuhan REACH
PFAS (menggantikan " Bahan berfluorinasi pendingin ") sesuai terminologi EPA
5.Kredibilitas Peta Jalan
Kemajuan node (5nm→3nm→2nm) yang menunjukkan evolusi teknis
Integrasi kebijakan karbon (standar GWP)
emoji dipertahankan untuk keterbagian digital
Format tabel bersih untuk data perbandingan
EN
