Semua Kategori

PERMOHONAN

Laman Utama >  PERMOHONAN

Kembali

Penyelesaian Penyejukan Tepat dalam Pembuatan Semikonduktor

Penyelesaian Penyejukan Tepat dalam Pembuatan Semikonduktor
Bagaimana Penyejuk Canggih Meningkatkan Hasil, Mengurangkan Kos & Memacu Cip Generasi Baharu

“Pada nod 5nm, kehilangan hasil sebanyak 40% dikaitkan dengan ketidakstabilan haba — sistem penyejuk kami mengurangkan ini sebanyak 37%.”

Ketepatan Terma = Keuntungan: Aplikasi Kritikal

1. Sistem Penyejukan Litografi EUV
Masalah Industri: Fluktuasi air sebanyak 0.1°C menyebabkan ralat tindih >3nm
Penyelesaian Kami:
✅ Penyejuk CO₂ GVS

kestabilan ±0.1°C melalui penyejukan superkritikal R744

Pemindahan bebas getaran (<0.1μm) mengelakkan penyimpangan kanta ASML NXE

tindak balas 20ms terhadap lonjakan tenaga laser

 

2. Sistem Kriogenik Penanaman Ion
Titik Sakit Industri: Penyejukan perlahan menghasilkan kecacatan kekisi, meningkatkan kebocoran peranti sebanyak 40%
Penyelesaian Kami:
✅ Unit Kriogenik Kaskad Siri-U (-80°C)

penyejukan pantas dalam 8 minit ke -50°C dengan penyejukan kaskad

Pengurusan suhu yang dikawal oleh algoritma PID

Peredaran dielektrik mengelakkan lengkungan voltan tinggi

 

3. Kawalan Suhu CVD Berzom Pelbagai
Titik Sakit Industri: Drift dinding ruang menyebabkan variasi ketebalan filem ±5%
Penyelesaian Kami:
✅ Penyejuk Kekal VT Tiga-Saluran

Kawalan bebas ±0.1°C untuk saluran gas/ruang/pam vakum

Ramalan fluks haba bersepadu dengan Applied Materials Endura™

Gelung tertutup menghalang pencemaran silang

晶圆2.png



Melebihi Penyejukan: Enjin Nilai Strategik

♻️ Kestabilan Tenaga
Pemulihan haba buangan (85°C → penjanaan UPW) mengurangkan penggunaan tenaga fabrik sebanyak 23%

Penyepaduan Industry 4.0
Penjejakan jejak karbon per-wafer dengan laporan pelepasan masa nyata

Operasi Sifar Pencemaran

Risiko

Penyejuk Konvensional

Penyelesaian Kami

Kebocoran PFAS

Denda Peraturan

Semula Jadi R744 (Patuh REACH)


Fabrikasi Masa Depan: Sedia Generasi Baharu
Penjajaran Peta Jalan Teknologi

Nod

Keperluan Muncul

Tindak Balas Kami

3nm

Keseragaman haba berzom-berzom

Kawalan kecerunan prediktif

2nm

Kestabilan pada tahap kuantum

Peredaman keayunan berasaskan AI

GWP

<150 piawaian wajib

Bahan penyejuk R744 (GWP=1)



Strategi Terjemahan Utama:

1.Peningkatan Kewibawaan Teknikal

Rujukan peralatan ASML/Applied Materials™ dengan notasi tanda dagangan

Istilah piawaian industri: "R744 superkritikal" (bukan "kitaran CO₂"), "penyejukan bertingkat"

 

2.Pengekalan Integriti Data

Pengekalan ketat pada metrik kritikal: ±0.1°C, <0.1μm, pengurangan tenaga 23%

Simbol matematik: >3nm (bukan "lebih 3nm"), julat ±5%)

 

3.Kerangka Masalah-Penyelesaian

Titik kesakitan ditukarkan ke suara aktif: "menyebabkan ralat tindihan >3nm"

Penyelesaian diberi awalan ✅ untuk pemindai visual

晶圆1.png

4.Kejituan Peraturan

Penyataan jelas kepatuhan REACH

PFAS (menggantikan " Berfluorin pendingin ") mengikut terminologi EPA

 

5.Kredibiliti Pelan Jangkaan

Kemajuan nod (5nm→3nm→2nm) yang menunjukkan evolusi teknikal

Penggabungan polisi karbon (piawaian GWP)

 

  • Isyarat Visual

emoji dikekalkan untuk kongsi secara digital

Format jadual yang bersih untuk data perbandingan

 

Sebelum

Penjaga Suhu Malar" dalam Pembuatan Semikonduktor: Mendedahkan Bagaimana Penyejuk Melindungi Hasil Cip

SEMUA

Penyelesaian Penyejukan Peralatan Automotif

Selepas
Produk Disyorkan