अर्धचालक निर्माण महत्वपूर्ण शीतलन समाधान

अर्धचालक निर्माण महत्वपूर्ण शीतलन समाधान
कैसे उन्नत चिलर उपज में वृद्धि करते हैं, लागत कम करते हैं और अगली पीढ़ी के चिप्स को शक्ति प्रदान करते हैं

“5एनएम नोड्स पर, 40% उपज हानि थर्मल अस्थिरता से जुड़ी है - हमारे चिलर सिस्टम इसे 37% तक कम कर देते हैं।”

थर्मल परिशुद्धता = लाभप्रदता: महत्वपूर्ण अनुप्रयोग

1. EUV लिथोग्राफी कूलिंग सिस्टम
उद्योग की समस्या: 0.1°C पानी के तापमान में उतार-चढ़ाव से >3nm ओवरले त्रुटियाँ उत्पन्न होती हैं
हमारा समाधान:
✅ जीवीएस सीओ₂ चिलर

अतिक्रांतिक आर744 प्रशीतन के माध्यम से ±0.1°C स्थिरता

शून्य-कंपन संचरण (<0.1μm) एएसएमएल एनएक्सई लेंस विकृति को रोकता है

लेजर ऊर्जा स्पाइक्स के लिए 20ms प्रतिक्रिया

2. आयन इम्प्लांटेशन क्रायोजेनिक सिस्टम
उद्योग की समस्या: धीमा शीतलन क्रिस्टल लैटिस दोषों को बढ़ाता है, जिससे उपकरण में रिसाव 40% तक बढ़ जाता है
हमारा समाधान:
✅ यू-सीरीज़ कैस्केड क्रायोजेनिक यूनिट (-80°C)

कैस्केड प्रशीतन के साथ 8 मिनट में त्वरित शीतलन -50°C तक

पीआईडी एल्गोरिथ्म-नियंत्रित तापमान प्रबंधन

डायलेक्ट्रिक सर्कुलेशन उच्च-वोल्टेज आर्किंग को रोकता है

शीतलन से परे: रणनीतिक मूल्य इंजन
♻️ ऊर्जा स्थिरता
अपशिष्ट ऊष्मा रिकवरी (85°C → UPW उत्पादन) से 23% तक फैब ऊर्जा उपयोग में कमी

उद्योग 4.0 एकीकरण
वास्तविक समय में उत्सर्जन रिपोर्टिंग के साथ प्रति-वेफर कार्बन फुटप्रिंट ट्रैकिंग

️ शून्य प्रदूषण संचालन

भविष्य के लिए फैब: अगली पीढ़ी की तैयारी
प्रौद्योगिकी मार्ग निर्देश संरेखण

महत्वपूर्ण अनुवाद रणनीतियाँ:

1.तकनीकी प्राधिकरण में वृद्धि

ट्रेडमार्क नोटेशन के साथ ASML/Applied Materials™ उपकरण संदर्भ

मानकीकृत उद्योग शब्दावली: "अतिसंतृप्त R744" ("CO₂ चक्र" के स्थान पर), "प्रतिशीतन कैस्केड"

2.डेटा अखंडता संरक्षण

महत्वपूर्ण मीट्रिक्स का कठोर संधारण: ±0.1°C, <0.1μm, 23% ऊर्जा कमी

गणितीय प्रतीक: >3nm ("3nm से अधिक" के स्थान पर), ±5% भिन्नता

3.समस्या-समाधान ढांचा

सक्रिय वाक्य में परिवर्तित समस्याएं: ">3nm ओवरले त्रुटियां उत्पन्न करता है"

दृश्य स्कैनिंग के लिए ✅ के साथ उपसर्गित समाधान

4.नियामक सटीकता

REACH अनुपालन का स्पष्ट कथन

PFAS (" फ्लोरीनयुक्त प्रशीतक ") ईपीए (EPA) शब्दावली के अनुसार

5.मार्गचित्र की विश्वसनीयता

तकनीकी विकास को दर्शाते हुए नोड प्रगति (5nm→3nm→2nm)

कार्बन नीति एकीकरण (GWP मानक)

• दृश्य संकेतन

डिजिटल साझा करने योग्यता के लिए इमोजी सुरक्षित रखें

तुलनात्मक डेटा के लिए साफ तालिका स्वरूपण