加熱ジャケットシステム - 高度製造向けの高精度熱管理

概要

当社の 加熱ジャケットシステム 半導体、CVD、エッチングプロセスにおける真空およびガス供給ラインに対して正確かつ安定した温度制御（±0.5℃）を提供します。結露、堆積、流れの閉塞を防止するよう設計されており、このシステムは一貫したプロセス性能と機器寿命の延長を保証します。

用途に応じて複数の材質オプションをご用意しています：

• シリコンフォーム

• フルPTFE

• PTFEコーティング

• Expanded ptfe

どのように機能するか

本システムは信頼性が高く、インテリジェントな熱管理を実現するために、3つの主要構成要素を統合しています：

• ヒーティングジャケット – 特定の配管レイアウトおよびトレース要件に合わせてカスタマイズ設計されています。

• PID コントロール ±0.5℃の温度安定性を確保し、専用のRS485通信とModbus RTUプロトコルを備えています。

• HMI制御キャビネット 複数の加熱ゾーンをリアルタイムで一元的に監視および制御します。

重要なアプリケーション

• ガス供給ライン bCl₃、ClF₃、TEOS、DCS、WF₆などの危険なガスに対して露点制御を維持します。

• CVDプロセス lPCVDおよびPECVDシステム内での前駆体蒸気温度を安定化（±1℃）。

• 金属エッチング アルミニウム、タングステン、その他の材料に対するプラズマエッチングにおいて、ガス反応性を一定に保ちます。

なぜ私たちのヒータージャケットシステムを選ぶべきなのか？

統合制御および監視

当社の HMI制御キャビネット すべてのヒータージャケットを1つのインターフェースに集約し、以下の機能を実現：

• リアルタイムの温度および状態監視

• 過去のデータ記録およびトレンド分析

• 自動レポート作成およびアラーム通知（SMS、メール、電話）

• 複数のコンピュータからのアクセスと相互バックアップ

高性能と安全性を追求して設計

• メンテナンスの複雑さと運用コストを削減

• 拡張性のあるスケーラブルな展開とネットワーク管理をサポート

• 重要なアプリケーションにおける工程の再現性と収率を向上

• 安全および性能に関する国際規格に準拠

詳細情報をリクエストする

加熱ジャケットシステムがプロセスの熱管理をどのように最適化できるかについてご確認いただくには、カスタマイズされたソリューションをご希望のお客様は、当社のエンジニアリングチームまでお問い合わせください。